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| 品牌 | ZEISS/蔡司 | 應用領域 | 綜合 |
|---|
蔡司GeminiSEM 460
FE-SEM滿足亞納米成像、分析和樣品靈活性的高要求
蔡司GeminiSEM可助您輕松實現亞納米級分辨率的成像。出色的成像和分析技術更使FE-SEM（場發射掃描電子顯微鏡）如虎添翼。我們采用創新的電子光學系統和全新樣品倉設計，不僅操作更加簡便，用途更加靈活多樣，還可為您帶來更高的圖像質量。無需水浸物鏡即可拍攝低于1 kV的亞納米級圖像。探索蔡司Gemini電子光學系統的三種設計：
l分析測試平臺的理想選擇——蔡司GeminiSEM 360
l實現高效分析——蔡司GeminiSEM 460
l表面成像的新標準——蔡司GeminiSEM 560
GeminisEM 460（場發射掃描電子顯微鏡）專為應對要求嚴苛的分析任務設計，可實現高效分析和自動化的工作流程。在面對顯微鏡領域充滿挑戰的分析任務時，其Gemini 2鏡筒能夠助您一臂之力，成像與分析條件可無縫切換。
?兼顧高分辨率和高電流
?定制自動化工作流
?為您帶來更多可能性
兼顧高分辨率和高電流
? GeminiSEM 460專為應對要求嚴苛的分析任務設計，可實現高效分析和自動化的工作流程。
? 快速執行高分辨率成像和分析：使用Gemini 2鏡筒，從低束流-低電壓工作條件無縫切換到高束流-高電壓工作條件（或反之）。
? 同時，可使用多個探測器對任意樣品進行多方位表征。
? 利用多功能樣品倉進行高效分析，還可選擇合適的分析探測器。
? 在全新的VP模式下，調高電流，獲得計數率達4000點/秒的EBSD成像。
? 通過兩個幾何對稱的EDS端口和共面式EDS/EBSD配置，可以檢測化學組分和晶體取向，實現高速、無陰影的EDS/EBSD成像。
定制自動化工作流
? 由于擁有如此強大的分析能力，工作流程的自動化便顯得至關重要。使用蔡司的Python腳本API，可創建并配置屬于您的自動化實驗流程。
? 根據您的個性化需求修改實驗流程并量身定制想要的效果。
? 充分利用STEM斷層掃描成像功能：將自動傾斜和旋轉功能與特征跟蹤功能有效結合，在將所有對齊的圖像發送至專屬三維重構軟件后，可構建具有納米級分辨率的三維斷層成像。
? 若需要測試材料承受極限，蔡司會為您提供執行自動化原位加熱和拉伸實驗的實驗平臺，在實驗過程中，可自動為您呈現材料在加熱和拉伸下的情況，并實時繪制應力應變曲線。
為您帶來更多可能性
? 以Gemini 2鏡筒的設計為基礎，在用于材料和生命科學領域時，超高可調電流密度條件下的分析能力顯著提升，即使在低電壓條件下亦是如此。
? 您可充分利用各種配件來升級系統。例如，不僅可以加入分析設備，還可使用原位實驗設備、冷凍成像和納米探針設備對多功能樣品倉進行配置。存儲器可讓您連接到實驗室中不同設備采集的數據，從而能夠集中管理項目。
? 在使用設備期間，可隨時輕松裝配和升級各種配置。
? 所有GeminiSEM均加入了蔡司ZEN core生態系統，通過這項功能，您可訪問ZEN Connect、ZEN Intellesis及ZEN的分析模塊，幫助您生成報告和實現GxP工作流程。
充分利用快速分析
任何樣品的全面表征都需要高性能的成像和分析，另外，如今的用戶都希望設備易于設置和操作。Gemini 2光學系統能滿足這些需求。
高分辨率成像與分析可無縫切換
● GeminiSEM 460配備具有雙聚光鏡的Gemini 2光學系統。
● 連續調整電子束的電流強度，同時優化束斑大小。
● 可在低束流的高分辨率成像與高束流的分析模式之間進行無縫切換。
● 在更改成像參數后無需進行校準，省時省力。
保持靈活，高效工作
? 保持靈活：使用高電子束能量密度在低束流和高束流下進行高分辨率成像和分析，不受您選擇的電子束能量影響。
? 樣品不會暴露于磁場中：實現了大觀察視野內的無失真EBSD圖案和高分辨率成像。
? 樣品傾斜轉動時不影響電子光學系統的性能，磁性樣品也能輕松成像。
? 選擇適合樣品的消荷電模式：局部電荷補償、腔室內可變壓力或NanoVP。
三維STEM斷層掃描成像
現在，您可隨心在FE-SEM上進行自動STEM斷層掃描成像。一個使用API、用于自動采集STEM傾斜系列的腳本可執行優中心的旋轉、載物臺傾斜移動，以及自動聚焦和圖像采集。此外，特征跟蹤可補償整個傾斜系列的偏移，并將兩個圖像之間的漂移保持在最小值約50 nm。STEM樣品載具允許載物臺傾斜60°、旋轉180°，aSTEM探測器可涵蓋所有需求。最后，來自高級重構工具包（ART）開發團隊的三維重構軟件利用該輸出渲染出您樣品的三維模型。
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